有色金屬真空冶金技術(shù)理論與應用

含鈮合金鋼及其制備方法與流程 1169     

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.本申請涉及煉鋼技術(shù)領(lǐng)域，更具體地，其涉及一種含鈮合金鋼及其制備方法。背景技術(shù).近年來(lái)，隨著(zhù)國家對于新標準《gb/t?預應力鋼絲及鋼絞線(xiàn)用熱軋盤(pán)條》的發(fā)布，對預應力鋼絞線(xiàn)的要求越來(lái)越高，使得鋼材加釩工藝普遍起來(lái)。釩作為微量合金元素，在鋼中具有細化晶粒、析出強化和形成合金碳化物的作用，因而其加入不僅可以提高鋼絞線(xiàn)的韌性，還可以提高鋼絞線(xiàn)的屈服強度、抗拉強度和硬度。.但是，正由于市場(chǎng)需求的擴大，作為加釩鋼種的釩鐵價(jià)格一路上漲，由年的約萬(wàn)元/噸，上漲到年的

高溫模具用鑄造鎳基合金的制作方法 866     

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本發(fā)明是一種高溫模具用鑄造鎳基合金，屬于金屬材料領(lǐng)域。背景技術(shù)等溫鍛造是高溫結構材料的一種重要成型工藝，而該工藝關(guān)鍵技術(shù)之一則是模具材料。目前國內如鈦合金等溫鍛造，模具溫度為800℃-950℃。變形高溫合金等溫鍛造，溫度一般為950-1050℃。鎳基粉末高溫合金，等溫鍛造溫度為1050-1100℃。鈦合金等溫鍛造，模具溫度為800℃-950℃，由于溫度較低，國內一般使用K403作為模具。由于K403合金在溫度超過(guò)950℃后，高溫拉伸和持久強度急劇下降，該合金不適用于變形高溫合金及鎳基粉末高溫合金

硬質(zhì)合金燒結工藝的制作方法 659     

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本發(fā)明涉及硬質(zhì)合金材料制造領(lǐng)域，具體涉及一種抑制粘結相鈷析出的硬質(zhì)合金燒結工藝。背景技術(shù)硬質(zhì)合金，特別是硬質(zhì)合金刀片，廣泛應用于金屬切削加工領(lǐng)域。這種刀片的基體主要由難溶的金屬碳化物硬質(zhì)相（如WC）和金屬粘結相（如Co）,經(jīng)過(guò)燒結后而得。燒結過(guò)程中，高溫階段的金屬粘結相（如Co）蒸發(fā)，冷卻后會(huì )在硬質(zhì)合金表面形成金屬粘結相層薄膜，而硬質(zhì)合金刀片表面的這種粘結相層薄膜降低了基體與CVD或PVD涂層的結合力。硬質(zhì)合金表面的粘結相層可以通過(guò)機械噴砂等方法去除，但去除硬質(zhì)合金表面的粘結相層以后，硬質(zhì)合金刀

Ti2AlNb基合金材料及其制備方法與流程 869     

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本發(fā)明屬于合金材料制備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種Ti2AlNb基合金材料及其制備方法。背景技術(shù)Ti2A1Nb基合金，與鎳基合金相比，Ti2AlNb基合金的密度較小，利于獲得較高的比強度，且拉伸強度和屈服強度比較接近；與γ-TiAl基合金和α2-Ti3Al基合金相比，Ti2AlNb合金雖然密度稍大，但其具備較好的室溫塑性、較高的拉伸強度和屈服強度。Ti2A1Nb基合金優(yōu)異的綜合力學(xué)性能，使其成為能在650～750℃使用的最具潛力的航空航天發(fā)動(dòng)機材料之一，對于降低飛行器的自重、提高燃油效率和高溫服役性能

周期可調的層狀多級異質(zhì)結構金屬材料及其制備方法 638     

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.本發(fā)明屬于異質(zhì)結構金屬材料制備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種周期可調的多級異質(zhì)結構的金屬材料及其制備方法。背景技術(shù).微觀(guān)異構調控是近年來(lái)興起的一種金屬材料設計理念。該設計理念在宏觀(guān)微觀(guān)不同尺度調控成分單元之間的力學(xué)不相容性，以促進(jìn)荷載條件下成分單元之間的交互約束作用，從而能夠同時(shí)激發(fā)異質(zhì)單元的力學(xué)性能，使材料整體表現出高強韌性能。在異質(zhì)結構中，粗細晶相互作用產(chǎn)生的背應力極大程度地提高了軟區域的應變硬化能力，大幅度提高軟區域的強度，以承擔更高的施加應力，并且促進(jìn)硬區域的變形能力。其組織在微觀(guān)尺度上表

雙金屬雙性能鈦合金整體葉盤(pán)制造方法與流程 387     

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本發(fā)明屬于發(fā)動(dòng)機制造技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種雙金屬雙性能鈦合金整體葉盤(pán)制造方法。背景技術(shù)整體葉盤(pán)是將風(fēng)扇、壓氣機或渦輪轉子葉片和輪盤(pán)[1]做成一體的結構形式，是國內外先進(jìn)航空發(fā)動(dòng)機的必選結構。目前，整體葉盤(pán)普遍采用整體加工或焊接方法制造而成，無(wú)需加工榫頭和榫槽。這種整體結構的優(yōu)點(diǎn)是：葉盤(pán)的輪緣徑向高度、厚度和葉片原榫頭部位尺寸均可大大減小，減重效果明顯；發(fā)動(dòng)機轉子部件的結構大為簡(jiǎn)化；消除了分體結構榫齒根部縫隙中氣體的逸流損失；避免了葉片和輪盤(pán)[1]裝配不當造成的微動(dòng)磨損、裂紋以及鎖片損壞帶來(lái)的故障，

以二氧化硅和氫氣為原料制備多晶硅的方法與流程 817     

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本發(fā)明涉及一種以二氧化硅和氫氣為原料制備多晶硅的方法，屬于非金屬礦深加工技術(shù)領(lǐng)域。背景技術(shù)近年來(lái)，太陽(yáng)能硅電池、半導體工業(yè)和電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛，而多晶硅是這些產(chǎn)業(yè)的最基本和主要的功能材料，因此，多晶硅的生產(chǎn)受到了各國企業(yè)的重視。長(cháng)期以來(lái)，世界各國對多晶硅的制備方法進(jìn)行了諸多研究，典型工藝如下：1，西門(mén)子法該方法由西門(mén)子公司于1955年開(kāi)發(fā)，是一種利用h2還原sihcl3在硅芯發(fā)熱體上沉積硅的工藝技術(shù)。西門(mén)子法于1957年開(kāi)始運用于工業(yè)生產(chǎn)，具有高能耗、低效率、有污染等特點(diǎn)。2，改良西門(mén)子法改良

金屬粉末冶金工藝用真空燒結爐的制作方法 878     

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本實(shí)用新型涉及燒結爐技術(shù)領(lǐng)域，具體為金屬粉末冶金工藝用真空燒結爐。背景技術(shù)燒結爐是指使粉末壓坯通過(guò)燒結獲得所需的物理、力學(xué)性能以及微觀(guān)結構的專(zhuān)用設備，燒結爐用于烘干硅片上的漿料、去除漿料中的有機成分、完成鋁背場(chǎng)及柵線(xiàn)燒結?，F有的金屬粉末冶金工藝用真空燒結爐存在著(zhù)尾氣處理效果不好的缺陷，在燒結爐燒結的過(guò)程中，會(huì )產(chǎn)生大量的有害氣體，這些氣體如果不能夠進(jìn)行有效的處理，排放到大氣中，會(huì )對空氣造成嚴重的污染，為此我們提出一種金屬粉末冶金工藝用真空燒結爐來(lái)解決這個(gè)問(wèn)題。實(shí)用新型內容本實(shí)用新型的目的在于提供金

多工位VD/VOD真空精煉爐裝置的制作方法 722     

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本發(fā)明涉及冶金設備中真空精煉爐布置領(lǐng)域，尤其涉及一種多工位VD/VOD真空精煉爐裝置。背景技術(shù)目前，雙工位VD或VOD真空精煉爐的布置形式有以下兩種，實(shí)現真空罐蓋和真空罐脫離與扣合。第一種：一個(gè)真空罐蓋在兩個(gè)固定真空罐之間可移動(dòng)且升降；第二種：兩個(gè)真空罐蓋分別移動(dòng)到各自相應的固定真空罐上方且升降。公知的，在真空罐蓋待機位和真空罐處理位之間必須留有足夠的空間位置，作為避免干涉行車(chē)調運真空罐內鋼包和設備檢修之用。因此，這兩種布置形式需要操作平臺長(cháng)、占地面積大，不用適于廠(chǎng)房?jì)仍O備多，物料雜，預留空間小

平板式石墨發(fā)熱體的制作方法 606     

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本實(shí)用新型涉及一種加熱器，尤其涉及一種真空冶金爐用平板式石墨發(fā)熱體，用于真空蒸餾冶金爐進(jìn)行加熱的加熱器結構技術(shù)。背景技術(shù)石墨及其制品具有電阻系數小、熱膨脹小、高強耐酸性、抗腐蝕性和耐高溫(3000℃)及耐低溫(-204℃)等優(yōu)良性能，被廣泛應用于冶金、機械、高能物理、電氣、化工、紡織、國防等領(lǐng)域。真空冶金領(lǐng)域常采用石墨材料制作發(fā)熱體，以獲得高溫熱場(chǎng)。公知的真空爐石墨發(fā)熱體主要有整體加工成型，多部件拼接及組合形成，發(fā)熱體形狀以圓筒籠狀形居多。拼接式及組合式圓筒籠狀形發(fā)熱體連接點(diǎn)過(guò)多，連接件容易受熱

氧化鎵真空碳熱還原制備金屬鎵的方法與流程 760     

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本發(fā)明涉及一種氧化鎵真空碳熱還原制備金屬鎵的方法，屬于稀散金屬真空冶金技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種金屬鎵的清潔、高效制備方法。背景技術(shù)鎵是7類(lèi)主要稀散元素之一，在地殼中的含量為5×10-4%~1.5×10-3%，其熔點(diǎn)僅為29.78℃，被稱(chēng)為放在人的手中即可熔化的金屬，熔化時(shí)為銀白色液體，過(guò)冷至0℃時(shí)也不固化。鎵屬于兩性物質(zhì)，溶于強酸和強堿。鎵在室溫下較穩定，但在高于1000℃氧或空氣中會(huì )氧化，且雜質(zhì)越多越易氧化。常溫下，鎵在干燥空氣中比較穩定，因為生成的氧化物薄膜會(huì )阻止其繼續氧化，而在潮濕空氣中會(huì )被氧

連續式冷坩堝感應霧化制備鈦粉設備的制作方法 560     

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本發(fā)明屬于真空冶金設備領(lǐng)域，尤其涉及一種連續式冷坩堝感應霧化制備鈦粉設備。背景技術(shù)感應熔煉技術(shù)是一種先進(jìn)的熔煉手段，它去除了熔煉過(guò)程中氣氛和加熱源對爐料的污染。但一般的真空感應熔煉技術(shù)不能防止爐料與坩堝之間的反應，尤其在熔煉活潑金屬或高純度金屬時(shí)，這種影響非常嚴重。上世紀末出現了一種更為先進(jìn)的冷坩堝真空感應熔煉技術(shù)。它是一種利用水冷坩堝（主要為純銅，也有用其它合金）來(lái)進(jìn)行真空感應熔煉的方法。此種方法可以完全排除坩堝對爐料的污染。冷坩堝感應熔煉裝置主要有三種澆鑄方式：傾倒鑄造(tilt-tappi

新型真空電子束熔煉爐的制作方法 1112     

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本發(fā)明涉及電子束熔煉技術(shù)的設備，尤指一種新型真空電子束熔煉爐。背景技術(shù)高純金屬、合金材料是現代工業(yè)制造及自動(dòng)化生產(chǎn)中的不可或缺的元素，對其的需求也越來(lái)越大，因此對高純金屬合金材料(特別是難熔金屬)的獲取方法研究也越來(lái)越受關(guān)注。真空電子束熔煉是一種有效的提純方法，特別是對于在冶煉溫度下具有較低蒸汽壓的金屬和合金更有效。電子束熔煉爐是一種特殊的真空冶金設備。利用電子槍可將幾十至數百KW的高能電子束聚集并產(chǎn)生高溫，能量密度大，當高能電子束聚焦在鎢、鉭、鈮、鋯等難熔金屬物料上時(shí)，使其熔化，并剔取雜質(zhì)，達

真空冶煉爐及一次連續還原蒸餾制備高純金屬鐿的方法與流程 357     

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本發(fā)明屬于真空冶金提純技術(shù)，具體涉及一種真空冶煉爐及一次連續還原蒸餾制備高純金屬鐿的方法。背景技術(shù)真空冶煉爐通常用來(lái)冶煉合金鋼，一般由爐膛、電熱裝置、密封爐殼、真空系統、供電系統和控溫系統等組成。密封爐殼用碳鋼或不銹鋼焊成，可拆卸部件的接合面用真空密封材料密封；為防止爐殼受熱后變形和密封材料受熱變質(zhì)，爐殼一般用水冷或氣冷降溫。爐膛位于密封爐殼內，根據爐子用途，爐膛內部裝有不同類(lèi)型的加熱元件，如電阻、感應線(xiàn)圈、電極和電子槍等。爐膛內裝有坩堝，有的還裝有自動(dòng)澆注裝置和裝卸料的機械手等。真空系統主要由

RH爐真空槽冶金裝置及方法與流程 688     

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一種rh爐真空槽冶金裝置及方法技術(shù)領(lǐng)域.本發(fā)明屬于鋼鐵冶金煉鋼領(lǐng)域，具體涉及一種rh爐真空槽冶金裝置及方法。背景技術(shù).目前，rh真空爐工作原理：鋼水處理前，先將浸漬管浸入待處理的鋼包鋼水中，當真空槽抽真空時(shí)，鋼水表面的大氣壓力迫使鋼水從浸漬管流入真空槽內(真空槽內大約.mbar時(shí)可使鋼水上升.m高度)。與真空槽連通的兩個(gè)浸漬管，一個(gè)為上升管，一個(gè)為下降管。由于上升管不斷向鋼液吹入氬氣，相對沒(méi)有吹氬的下降管產(chǎn)生了一個(gè)較高的靜壓差，使鋼水從上升管進(jìn)入并通過(guò)真空槽下部流向下降管，如此不

AlCoCrFeNi2.1共晶高熵合金及其激光選區增材制造制備方法 813     

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本發(fā)明涉及金屬材料激光成型技術(shù)，尤其涉及一種alcocrfeni2.1共晶高熵合金及其激光選區增材制造制備方法。背景技術(shù)高熵合金作為一種突破傳統合金設計理念的、由多種主元組成的新型合金，近年來(lái)引起研究學(xué)者的廣泛關(guān)注。高熵合金因為由多種元素以等原子比例或近等原子比例組成，使得高熵合金具有熱力學(xué)上的高熵和晶格畸變效應、動(dòng)力學(xué)上的遲滯擴散和“雞尾酒”效應，這種特殊的效應使高熵合金具備一系列獨特的性能。fcc結構的高熵合金表現出很好的塑性但是強度低，bcc結構的高熵合金強度高但是塑性差，這限制了合金在實(shí)

儲能用長(cháng)壽命人造石墨負極材料及其制備方法與應用與流程 449     

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.本發(fā)明屬于鋰離子電池負極材料技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種儲能用長(cháng)壽命人造石墨負極材料及其制備方法與應用。背景技術(shù).作為儲能設備的鋰離子二次電池(libs)因其具有高的能量密度、長(cháng)的循環(huán)壽命、穩定的充放電平臺、寬的工作溫度區間和環(huán)境友好性等優(yōu)點(diǎn)，成為儲能領(lǐng)域的研究重點(diǎn)。國內用于制作鋰離子電池負極材料的碳材料主要分兩類(lèi)，分別是人造石墨和天然石墨，天然石墨具有低的嵌入電位，優(yōu)良的嵌入和脫嵌性能，是良好的鋰離子電池負極材料。但是其缺點(diǎn)在于石墨層間以較弱的分子間作用力，即范德華力結合，充電時(shí)隨著(zhù)溶劑化鋰離

高磁導率的Fe3O4修飾石墨烯/玻璃纖維復合材料及其制備方法與流程 1205     

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本發(fā)明涉及一種復合材料，特別涉及一種高磁導率的Fe3O4修飾石墨烯/玻璃纖維復合材料及其制備方法。背景技術(shù)隨著(zhù)科學(xué)技術(shù)和電子工業(yè)的發(fā)展，各種電子設備的應用日益增多，形成電磁污染。電磁波輻射不僅會(huì )損害人體健康，干擾電子儀器的正常工作，還會(huì )造成機密信息的泄露，因此，研發(fā)高性能電磁屏蔽材料，減少電磁污染對為我們的社會(huì )生活和國防建設都具有重要意義。石墨烯是一種由碳原子以sp2雜化方式形成的蜂窩狀平面薄膜，是一種只有一個(gè)原子層厚度的準二維材料，具有良好的導電、導熱性能及力學(xué)性能，其電子遷移率可達到2×10

CMT增材制造鈦合金材料的氣體保護裝置的制作方法 341     

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一種cmt增材制造鈦合金材料的氣體保護裝置技術(shù)領(lǐng)域.本實(shí)用新型屬于焊接設備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種cmt增材制造鈦合金材料的氣體保護裝置。背景技術(shù).cmt技術(shù)是一種無(wú)焊渣飛濺的新型焊接工藝技術(shù)，通過(guò)數字控制的方式監控短電弧和焊絲的換向送絲。焊槍附近的氣體保護罩的作用是焊接時(shí)將空氣隔離在焊區之外，保護熔池不被氧化。利用惰性氣體對金屬焊材的保護，焊材在被焊基材上融化成液態(tài)形成熔池，使被焊金屬和焊材冶金結合，因此合理的設計保護罩對于保障增材制造質(zhì)量有重要意義。.鈦合金在增材制造過(guò)程中液態(tài)熔滴和熔池

高純TA1鈦材獲得超細晶粒的方法 654     

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高純ta鈦材獲得超細晶粒的方法技術(shù)領(lǐng)域.本發(fā)明涉及鈦及鈦合金制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種高純ta鈦材獲得超細晶粒的方法。背景技術(shù).工業(yè)純鈦合金ta屬于α型鈦合金，具有高強度，低密度、優(yōu)良的耐腐蝕性和韌性，塑性很好，易于加工成型和焊接等優(yōu)點(diǎn)。ta鈦合金廣泛用于機械設備換熱器，高爾夫球、醫療器械等方面。另外，由于鈦及鈦合金的密度較小，制造出來(lái)的汽車(chē)部件具有更小的質(zhì)量，目前廣泛使用在汽車(chē)發(fā)動(dòng)機的制造上，它不光可以延長(cháng)產(chǎn)品使用的年限和提高燃燒效率，同時(shí)還可減少噪音。.鈦及其合金組織的微細化，

含W的高強度鑄造Ni3Al基高溫合金及其制備方法與流程 789     

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本發(fā)明涉及高溫合金技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種含W的高強度鑄造Ni3Al基高溫合金及其制備方法。背景技術(shù)目前廣泛使用于煤、天然氣和石油轉化利用系統和先進(jìn)熱力發(fā)動(dòng)機中的結構材料，如奧氏體不銹鋼和高溫合金，通常無(wú)法同時(shí)滿(mǎn)足服役條件所需求的強度、韌性和耐蝕性。涂層材料如FeCrAl雖然擁有優(yōu)良的耐蝕性，但其高溫強度較差。因此迫切需要發(fā)展新型合金以滿(mǎn)足高溫結構部件的苛刻服役條件，即具有良好高溫機械性能和優(yōu)良耐蝕性的合金，而Ni3Al基合金恰好符合上述要求。金屬間化合物Ni3Al具有其獨特的高溫性能，十分適合應

高精度大口徑平面離子束拋光機的制作方法 666     

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本實(shí)用新型涉及離子束拋光機技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種高精度大口徑平面離子束拋光機。背景技術(shù)離子束拋光技術(shù)是利用離子濺射原理，通過(guò)在真空狀態(tài)下離子源引束產(chǎn)生等離子體能量束流，束流轟擊工件表面產(chǎn)生原子級別的材料去除從而實(shí)現光學(xué)元件的高精度加工。傳統的離子束拋光機在對工件的不同面進(jìn)行拋光采用人工手動(dòng)翻轉，這種方式打斷了拋光作業(yè)節奏，而且費時(shí)費力，降低拋光效率，且增大了作業(yè)風(fēng)險。實(shí)用新型內容本實(shí)用新型的目的是為了解決現有技術(shù)中離子束拋光機不便同時(shí)對工件的多個(gè)不同的表面進(jìn)行拋光的問(wèn)題，而提出的一種高精度大口徑

高溫合金定向凝固的澆注結構和澆注方法與流程 1057     

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本發(fā)明涉及的澆注技術(shù)領(lǐng)域，具體的說(shuō)，是一種高溫合金定向凝固的澆注結構和澆注方法。背景技術(shù)目前世界上廣泛應用的高溫合金定向凝固鑄件制備方法是bridgman法和lmc法。將制備好的陶瓷型殼放置在真空精密鑄造爐的水冷銅盤(pán)上，待陶瓷型殼加熱至預定溫度后，實(shí)施澆注，然后按照一定速度將注入合金液的陶瓷型殼從真空精密鑄造爐的熱區(陶瓷型殼加熱器)抽拉至冷區或金屬冷卻液中，使得合金液形成定向凝固，從而獲得定向凝固鑄件。由于通常陶瓷型殼的預熱溫度及合金液的澆注溫度遠高于合金的液相線(xiàn)，澆注后合金液的流動(dòng)性能很好。

具有穩定工作狀態(tài)的離子束拋光機的制作方法 1017     

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本實(shí)用新型涉及離子束拋光機領(lǐng)域，具體涉及具有穩定工作狀態(tài)的離子束拋光機。背景技術(shù)所謂離子束拋光，就是把惰性氣體，如氬、氮等放在密閉空間中，用高頻電磁振蕩或放電等方法對陰極電流加熱，使之電離成為正離子，再用5千至10萬(wàn)伏高電壓對這些正離子加速，使它們具有一定的能量。利用電子透鏡聚焦，將它們聚焦成一細束,形成高能量密度離子流，在計算機的控制下轟擊放在真空室經(jīng)過(guò)精磨的工件表面，從其表面把工件物質(zhì)一個(gè)原子一個(gè)原子地濺射掉。用這種方法實(shí)現對工件表面進(jìn)行深度從100埃到10微米左右的精密加工?，F有的小型離子

納米多孔金材料及制備方法與流程 1092     

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本發(fā)明屬于納米材料領(lǐng)域，更具體地，涉及一種納米多孔金材料及制備方法。背景技術(shù)納米多孔金屬是指孔徑尺寸在納米范圍內的多孔金屬材料，由連續韌帶和孔組成，形成三維雙連續的多孔結構。納米多孔金屬具有高孔隙率、具有大的內表面積的納米孔，是一種兼具功能和結構雙重屬性的新型功能材料，既有高導電性、可焊性、高導熱性、抗腐蝕、抗疲勞、延展性以及結構強度高、耐高溫等金屬材料的優(yōu)異性能，又具有納米材料的表面效應和尺寸效應。納米多孔金屬材料可廣泛應用于生物、醫藥、電子、光學(xué)、催化、傳感器及生物分子的隔離和

葉輪鑄造工藝及葉輪的制作方法 777     

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本發(fā)明涉及鑄造技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種葉輪鑄造工藝及葉輪。背景技術(shù)離心式壓縮機或離心泵用來(lái)為各種流體流動(dòng)提供加壓。這種壓縮機或離心泵包含葉輪，當葉輪旋轉時(shí)，流體軸向方向進(jìn)入，然后加速進(jìn)入周向和徑向方向，高流速流體進(jìn)入擴壓器，經(jīng)轉換速度后輸出高壓流體，對此類(lèi)壓縮機或離心泵，所使用的葉輪一般為合金精密鑄造大型薄壁葉輪。普通重力鑄造方式鑄造葉輪時(shí)容易出現充注不足等缺陷，受到型殼結構限制，型殼自身承受壓力有限，葉輪鑄件容易產(chǎn)生氣孔、疏松等問(wèn)題。發(fā)明內容本發(fā)明的目的在于提供一種葉輪鑄造工藝及葉輪，其能

高效太陽(yáng)能電池用大產(chǎn)能爐管式ICP-CVD裝置的制作方法 878     

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一種高效太陽(yáng)能電池用大產(chǎn)能爐管式icp-cvd裝置技術(shù)領(lǐng)域.本發(fā)明涉及太陽(yáng)能電池生產(chǎn)設備，尤其涉及一種高效太陽(yáng)能電池用大產(chǎn)能爐管式icp-cvd裝置。背景技術(shù).目前高效太陽(yáng)能電池主要膜系材料為單質(zhì)硅，晶體結構為非晶或微晶狀態(tài)。而且希望的是更多的微晶狀態(tài)的單質(zhì)硅材料。目前主要的生長(cháng)方式是采用平行平板式pecvd設備(ccp-cvd)，在一定真空度和溫度下，使用硅烷氣體分解得到，此方式由于產(chǎn)生的等離子體密度低，生成的單質(zhì)硅薄膜主要是非晶狀態(tài)且氫含量偏高。較好的方法是采用高密度等離子體放電技術(shù)比如

預埋釬劑復合板及其制備方法和用途與流程 766     

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.本發(fā)明屬于復合材料技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種鋁合金復合材料，具體涉及一種預埋釬劑復合板及其制備方法和用途。背景技術(shù).鋁合金復合釬焊材料被廣泛的應用于汽車(chē)熱交換器中，如汽車(chē)發(fā)動(dòng)機冷卻系統的中冷器、散熱器，和空調系統的暖風(fēng)、冷凝器等。各類(lèi)熱交換器產(chǎn)品一般都由多個(gè)零部件組成，如主板、管料和翅片等，各零部件之間通過(guò)高溫釬焊最后形成金屬接頭連接。.鋁合金復合板通常包含芯層和釬料層。釬料層在高溫下會(huì )優(yōu)先融化形成焊接接頭，從而實(shí)現各零部件的金屬連接。然而，由于鋁合金表面有一層致密的氧化膜會(huì )阻礙釬料層的融化和流

靶材結構及其制作方法與流程 1041     

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.本發(fā)明涉及靶材加工領(lǐng)域，具體涉及一種靶材結構及其制作方法。背景技術(shù).濺射鍍膜靶材在半導體集成電路(vlsi)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用，鍍膜靶材是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類(lèi)型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。.半導體工業(yè)中，靶材主要分為圓柱靶材和平面靶材，平面靶材多采用磁控濺射技術(shù)沉積；磁控濺射即pvd(physicalvapordeposition：物理氣相沉積)是指在真空條件下，采用中電壓、大電流的電弧放電技術(shù)

高韌性高鉻高碳鑄鋼及其熱處理方法與流程 581     

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.本發(fā)明屬于金屬及其熱處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種高鉻高碳鑄鋼及其多階段熱處理方法。背景技術(shù).高鉻高碳鑄鋼具有許多吸引人的性能，如高強度、高硬度、抗合金元素溶解和碳化物析出引起的變形。常規成分采用常規的冶金路線(xiàn)加工這種鋼特別困難。主要的挑戰是，傳統的靜態(tài)鑄錠鑄造相對緩慢的冷卻過(guò)程會(huì )形成粗大的網(wǎng)狀共晶碳化物，這些連續的含鉻的網(wǎng)狀碳化物結構在大尺寸鑄錠的熱變形過(guò)程中會(huì )引起明顯的裂紋。雖然高鉻高碳鋼也進(jìn)行常規熱處理，采用簡(jiǎn)單的淬火-回火處理，可以獲得較高的硬度，但網(wǎng)狀碳化物依然不能被消除，影響后續的