本發明涉及復合材料制備領域,公開了一種高可見光活性AgIn5S8/UIO?66?NH2復合材料及其制備方法和應用,本發明中以UIO?66?NH2為基體,通過AgIn5S8均勻包覆在UIO?66?NH2基體表面形成AgIn5S8/UIO?66?NH2異質結復合材料,該復合材料具有較大的比表面積,利用AgIn5S8與UIO?66?NH2的協同作用,應用在光催化還原Cr(Ⅵ)中,催化活性位點豐富,能夠有效抑制光生電子?空穴的復合,提高光催化活性,克服了單一半導體光催化性能不佳的缺點;制備過程簡便,可控性強。
聲明:
“高可見光活性AgIn5S8/UIO-66-NH2復合材料及其制備方法和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)