本發明公開了一種具有三階非線性光學性質的復合材料的制備方法,使制得的復合材料同時具有磁性,該復合材料由納米四氧化三鐵、納米硫化鎘修飾聚噻吩而得,所述聚噻吩用高錳酸鉀氧化噻吩制得,四氧化三鐵和硫化鎘分別用原位生成法制備,納米四氧化三鐵與聚噻吩以配位鍵連接,納米硫化鎘包裹在納米四氧化三鐵表面,納米粒子粒徑為2~20nm,在整個復合材料中的含量為0.1~1mol/mol。該復合材料在532nmNd:YAG激光光源激發下,對激光有較強的非線性折射和吸收,非線性極化率比納米粒子及高分子強2~4倍。本發明獲得的材料具有磁性,在采用所述PTh-Fe3O4/CdS材料制備高分子納米復合薄膜時,可通過磁場或電場對高分子納米復合材料的自組裝結構進行設計,提高材料的性能。
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