本發明屬于功能材料技術領域,具體涉及一種納米填料及其制備方法與應用。所述納米填料包括:內核CNTs,包覆內核CNTs表面的PDA膜,及在PDA膜表面原位生長的納米CeO2。本發明利用PDA膜提高了碳納米管與有機涂層分子的親和性,增強了碳納米管在有機涂層中的分散能力,從而利用CNTs增強涂層對基體的粘附力和涂層自身的抗撕裂強度,延長侵蝕離子在涂層中的傳輸路徑;同時也解決了納米CeO2直接生長在CNTs表面時存在的稀少且分散的問題,從而利用納米CeO2對鋁合金基體的緩蝕作用,與CNTs共同提高涂層的防護性能。
聲明:
“納米填料及其制備方法與應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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