boe廢液在線再生的方法
技術領域
1.本發明涉及廢液回收領域，特別是指一種boe廢液在線再生的方法。
背景技術：
2.boe(buffered oxide etch)，緩沖氧化物蝕刻液，簡稱“緩沖蝕刻液”。由氫氟酸(hf)與氟化銨(nh4f)依不同比例混合而成。用于半導體元件(例如芯片)的蝕刻，hf主要起蝕刻反應作用，nh4f則作為緩沖劑使用；hf與硅反應，nh4f固定h+的濃度，使之保持一定的蝕刻率。
3.各工廠的boe配比并不完全相同。6：1的boe緩沖蝕刻液即表示49％hf水溶液與40％nh4f水溶液按照體積比1：6的成分混合而成，hf和nh4f混合后，部分形成氟化氫銨(nh4hf2)。正常情況下，對半導體元件的刻蝕速度約為10nm/sec。
4.當boe蝕刻液使用一定時間后，就作為廢液排出，成為boe廢液。
5.boe廢液主要成分為氟化銨(nh4f)和氟化氫銨(nh4hf2)，同時含有少量的氟硅酸銨；屬于危廢！大部分半導體工廠委托有資質的危廢處置單位進行無害化處理，即：通過加入石灰或消石灰，反應成氟化鈣和氨水；有條件的處置單位會回收氨水，氟化鈣成為污泥，作無害化填埋。這種處置方式成本高、污染大、污泥處置費用高，關鍵是資源沒有得到有效利用，是一種得不償失的方法。
6.通過回收處理，可以把boe廢液生產為氫氟酸和氨。
7.boe蝕刻液雖然是由氫氟酸和氨組成，但氫氟酸和氨并不等于是boe蝕刻液；半導體工廠產生的boe廢液只能委托有處理能力的工廠進行處理，并且要支付高昂的費用。而半導體工廠仍然要從市場采購boe蝕刻液。
8.如果能把boe廢液能重新再生為boe蝕刻液，回到半導體產線，半導體工廠就不再需要支付費用委外處理boe廢液，也可大大減低采購boe蝕刻液的成本，不僅節省了boe廢液和boe蝕刻液的運輸成本，還可以使有效氟資源和氨資源得到全面的循環利用，是利國利民的好事。
9.因此，有必要研發一種boe廢液在線再生的方法，使boe廢液的有效資源得到全面的、省事的、節約成本的回收利用。
技術實現要素：
10.本發明提出一種boe廢液在線再生的方法，解決了現有技術中boe廢液處理難以及無法再回到生產線的問題。
11.本發明的技術方案是這樣實現的：
12.一種boe廢液在線再生的方法，包括：
13.boe廢液與氨反應，生成氟化銨溶液；所
聲明：
“BOE廢液在線再生的方法與流程” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
1035
編輯：中冶有色網
來源：浙江容躍環?？萍加邢薰?nbsp;
分享 0
舉報 0
收藏 0
反對 0
點贊 0
2025年07月11日 ~ 13日 
