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等離子體射流陣列均勻處理水溶液裝置及處理方法

1065   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 02:40:07
一種等離子體射流陣列均勻處理水溶液的裝置，等離子體射流陣列結構包括多個結構相同的等離子體射流裝置；等離子體射流裝置包括絕緣介質一，絕緣介質一的上部與下部均環繞有金屬環一與金屬環二；電源包括高壓極與地極，高壓極、地極分別與金屬環一、金屬環二連接。等離子體射流陣列結構可用于大面積的水溶液處理；噴泉式的水柱保證水溶液處理的均勻性和連續性；等離子體射流陣列結構與水處理裝置的水溶液相分離，兩者之間的距離可調節，等離子體放電不受水溶液的影響，放電具有穩定性；應用范圍廣泛，可用于工業廢水、污水處理，水溶液消毒滅菌以及制備消毒水等，且不會產生二次污染；結構簡單，成本低，易操作，產品易擴大，易于工業轉化。
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