本發明提供了一種用于芯片成膜的高純五(二甲基氨基)鉭的制備方法,屬于化學合成技術領域。本發明首先將TaCl5在有機溶劑中與5倍的二甲胺反應,在鉭金屬原子上引入2個?NMe2基團,形成二(二甲基氨基)三氯化鉭,然后將二(二甲基氨基)三氯化鉭與3倍量的二甲基氨基鋰反應得到五(二甲基氨基)鉭。本發明的制備方法中減少了正丁基鋰的用量,降低了制造成本;且通過氮氣保護的離心工藝分離產品及副產物,解決了不易分離的問題,同時減少了溶劑的用量,降低了由于多次洗滌造成產品與空氣和水汽的接觸頻次,降低了生產成本,提高產品純度。
聲明:
“用于芯片成膜的高純五(二甲基氨基)鉭的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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