本實用新型提供一種液態相對真空噴吹式冶煉金屬的裝置,包括真空給料系統、真空還原系統、出渣系統以及收集凈化系統,其中,真空給料系統用于向真空還原系統加入爐料;真空還原系統用于對爐料進行真空還原處理;其中噴槍插入真空罐內的液態還原劑中,以氬氣為載體向液態還原劑中噴入被還原粉劑,并且使得被還原粉與液態還原劑發生還原反應生成金屬蒸汽,并且金屬蒸汽隨所述氬氣泡逸出還原劑液面;出渣系統用于處理真空還原系統處理后的爐渣;收集凈化系統用于凈化收集在真空還原系統生成的金屬蒸汽以及非目標金屬蒸汽。利用本實用新型,能夠解決現有的皮江法成本高、要求真空度較高等問題。
聲明:
“液態相對真空噴吹式冶煉金屬的裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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