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高純硅襯底下電子束熔煉提純多晶硅的方法及設備

1021   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 14:50:16
本發明屬于用物理冶金技術提純多晶硅的技術領域。一種高純硅襯底下電子束熔煉提純多晶硅的方法，第一步備料及預處理；第二步形成高純硅襯底：然后開啟電子束束流為200-500mA完全熔化高純硅料，緩慢降低束流為零，即在水冷坩堝中形成高純多晶硅錠，調節電子束束流為150-300mA熔化高純多晶硅錠，2-5min后形成一層高純硅襯底；第三步熔煉提純：高磷硅料連續緩慢落入熔池中，加大束流至300-700mA，高磷硅料熔化后形成高磷硅液，雜質磷得到去除后從導流口流入坩堝之中，得到低磷硅液，凝固后得到低磷的多晶硅錠。本發明方法提純效果好，工藝簡單，節約能源，降低污染，適合批量生產，設備結構簡單，構思獨特，操作簡單，成本低，可實現連續熔煉。
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“高純硅襯底下電子束熔煉提純多晶硅的方法及設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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