本發明公開了一種堿性蝕刻液及其循環使用方法,所述堿性蝕刻液包括氯化銅、有機胺、氧化劑、添加劑以及去離子水;每升堿性蝕刻液中氯化銅占10?150g,有機胺占10?200g,氧化劑1?100g,添加劑占1?100g,其余為去離子水。本發明的堿性蝕刻液,在使用過程中溶液是堿性,對設備要求不高;使用成本低,操作安全環保,檢測控制系統簡單;低側蝕,蝕刻速度快;穩定性高。該方法采用膜分離技術和沉淀還原的技術相結合,可以很好的實現蝕刻液的循環再生利用,反應后的產物是氮氣和水,不帶入其它雜質,過濾沉淀銅后的濾液可以回用于配制新蝕刻液。
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