boe廢液制備氟化氫的方法及裝置技術領域1.本發明涉及廢液再利用領域,特別是指一種boe廢液制備氟化氫的方法及裝置。背景技術:2.boe(buffered oxide etch),緩沖氧化物蝕刻液,簡稱“緩沖蝕刻液”。由氫氟酸(hf)與氟化銨(nh4f)依不同比例混合而成。用于半導體元件(例如芯片)的蝕刻,hf主要起蝕刻反應作用,nh4f則作為緩沖劑使用;hf與硅反應,nh4f固定h+的濃度,使之保持一定的蝕刻率。3.各工廠的boe配比并不完全相同。6:1的boe緩沖蝕刻液即表示49%hf水溶液與40%nh4f水溶液按照體積比1:6的成分混合而成,hf和nh4f混合后,部分形成氟化氫銨(nh4hf2)。正常情況下,對半導體元件的刻蝕速度約為10nm/sec。4.當boe蝕刻液使用一定時間后,就作為廢液排出,成為boe廢液。5.boe廢液主要成分為氟化銨(nh4f)和氟化氫銨(nh4hf2),同時含有少量的氟硅酸銨;屬于危廢!大部分半導體工廠委托有資質的危廢處置單位進行無害化處理,即:通過加入石灰或消石灰,反應成氟化鈣和氨水;有條件的處置單位會回收氨水,氟化鈣成為污泥,作無害化填埋。這種處置方式成本高、污染大、污泥處置費用高,關鍵是資源沒有得到有效利用,是一種得不償失的方法。6.氟化氫(hydrogen fluoride),化學分子式為hf,分子量20.01,易溶于水、乙醇。無水氟化氫(簡稱ahf)低溫或壓力下為無色透明液體,沸點19.4℃,熔點-83.37℃,密度1.008g/cm3(水=1)。在室溫和常溫下極易揮發成白色煙霧。它的化學性質極活潑,能與堿、金屬、氧化物以及硅酸鹽等反應。氟化氫是現代氟化工的基礎,是制取元素氟、各種氟致冷劑、含氟新材料、無機氟化鹽、各種有機氟化物等的最基本原料。氟化氫與水可以在任何質量比例混合,成為氫氟酸(簡稱hf)。7.氟化氫或氫氟酸是生產boe蝕刻液的原料,如果boe廢液能重新回到氟化氫或氫氟酸的狀態,其有效資源可得到全面的循環利用!不僅解決半導體行業的廢液出路問題,更是利國利民的好事。8.因此,有必要研發一種boe廢液制備氟化氫的方法,使boe廢液的有效資源得到全面的回收利用。技術實現要素:9.本發明提出一種boe廢液制備氟化氫的方法及裝置,解決了現有技術中boe廢液后處理的問題。10.本發明的技術方案是這樣實現的:11.一種bo
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