本申請提供一種離子束清洗設備,包括:離子室,用于提供真空環境;陰極離子源,用于提供電子,與離子室連通,陽極裝置,設置于離子室內,陽極裝置與陰極離子源構成電場區域;治具組件,設置于離子室內并位于電場區域中,用于承載工件,治具組件包括連接件、第一磁鐵和第二磁鐵,第一磁鐵和第二磁鐵相對設置且均套設于連接件,以形成磁場區域,工件套設于連接件并位于第一磁鐵和第二磁鐵之間,且設置于磁場區域內,連接件與一外部電源的負極電連接,用于牽引電場區域內的正離子至磁場區域內的工件的表面,以清洗工件。該離子束清洗設備,代替傳統的化學去膜層方案,避免化學廢液的產生及排放,降低廢水處理成本,節省成本,同時保護環境。
聲明:
“離子束清洗設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)