本發明屬于鐵電薄膜制備及其應用領域。鈮酸鋰靶材在高能脈沖激光的作用下形成等離子態余暉,之后沉積到襯底上形成薄膜,該方法制備的薄膜厚度均勻、致密性好,但容易出現復雜多晶的問題,限制了其在納米鐵電疇、片上集成光學等領域的應用。本發明公布一種基于脈沖激光沉積法結合兩步控制氧氣壓制備良好外延取向鈮酸鋰薄膜的技術方法。薄膜沉積過程中,首先控制較高氧氣壓抑制其非特征晶向生長,然后控制較低氧氣壓促進其特征晶向擇優生長。該方法解決了薄膜出現復雜多晶的問題,操作簡捷、易于制備納米級高質量外延取向鈮酸鋰薄膜。所制備薄膜可應用于制備波導、微腔、電光調制器等功能器件。
聲明:
“外延取向鈮酸鋰薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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