本發明涉及薄膜技術和太陽能技術等新能源開發技術領域,特指一種太陽能選擇性吸收膜系及其制備方法。本發明采用雙層AlN作為減反射層,采用單層Si作為膜系的吸收層,采用鋁板作為膜系的基體,其中基體采用MEMS工藝方法處理成具有微坑結構的形狀;為了使膜與基體結合良好和提高紅外反射,首先在基體上鍍一層鋁膜,該膜系從頂層至底層依次為:雙層AlN膜減反射層、單層Si吸收層、單層鋁膜紅外反射層。本發明具有“制備工藝簡單,吸收率/發射率高”的優點;基體表面所形成的微坑結構可實現對太陽光的多次反射以增加光吸收;雙層AlN膜可有力地減少膜表面對太陽光可見光的反射。
聲明:
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