本實用新型公開了基于光學干涉技術測量樣品表面相互作用的超光滑二氧化硅基底,包括二氧化硅層,所述二氧化硅層的底部設置有銀反射層,所述銀反射層的頂部和底部均固定連接有鈦層,所述鈦層的頂部與二氧化硅層的內壁固定連接。本實用新型通過頂層是二氧化硅層,可以更輕松地對其進行改性,比云母表面更有效地清潔這些復合材料表面,這些復合材料表面可以提前大量生產,并且在環境條件下或在真空下至少可以保持穩定數月,通過將銀反射層埋入聚合物層和二氧化硅層,故此都可以進行調整,以適應表面的光學、電氣、結構和機械特性,從而達到了局限性小的效果,解決了現有的表面力儀局限性較大的問題。
聲明:
“基于光學干涉技術測量樣品表面相互作用的超光滑二氧化硅基底” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)