本發明涉及一種Cf/SiC復合材料表面光學涂層及其制備方法,所述光學涂層是以SiC/Si為主相、厚度為1mm以上的光學致密涂層,所述光學涂層的制備方法包括以下步驟:(a)通過漿料涂覆工藝在Cf/C復合材料表面制備主相為C和SiC的多孔素坯膜;(b)將步驟(a)所得的多孔素坯膜和Cf/C復合材料同步滲硅,在所述Cf/C復合材料通過滲硅反應得到Cf/SiC復合材料的同時,在Cf/SiC復合材料表面形成以SiC/Si為主相的致密光學涂層。本發明所述方法還具有成型工藝簡單、涂層致密度高、微觀組成與厚度可控以及與基底結合強度高等優點。
聲明:
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