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用于選擇性分離鈀離子的離子印跡復合膜的制備方法及應用

942   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 15:08:02
本發明屬功能材料制備技術領域，公開了一種鈀離子印跡復合膜的制備方法及其應用。特指以聚二甲基硅氧烷制備基底膜，以鈀離子為模板、8?氨基喹啉和4?乙烯基吡啶為配體、甲基丙烯酸羥乙酯為功能單體、乙二醇二甲基丙烯酸酯為交聯劑、偶氮二異丁腈為引發劑，結合犧牲模板法、離子印跡聚合技術，制備鈀離子印跡復合膜。選擇性吸附實驗用來研究所制備的鈀離子印跡復合膜的選擇性吸附能力；選擇性滲透實驗用來研究所制備的鈀離子印跡復合膜對目標物(鈀離子)和非目標物(鈷離子、銅離子、鎘離子和鎳離子)的選擇性滲透能力。結果表明利用本發明制備的鈀離子印跡復合膜對鈀離子具有較高的特異性識別能力和吸附分離能力。
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“用于選擇性分離鈀離子的離子印跡復合膜的制備方法及應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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