一種利用等離子刻蝕機的垂直電場分布制備材料表面形態呈梯度變化的微納米級結構陣列功能材料的方法,屬于材料科學技術領域。本發明結合傾斜放置的樣品和等離子刻蝕機的垂直電場在多種材料中引入梯度結構陣列,整個過程操作簡便,通過調控刻蝕條件和基底材料的種類可以在多種材料(聚合物、氧化物、金屬等)中引入形態可控的梯度結構。本發明步驟簡單,根據具體使用材料更換相應的刻蝕氣體即可完成制備目的結構樣品,實例中所制備的梯度微納米級結構是二維尺度上的,其在微納米級形態結構上是呈梯度變化的,通過在材料表面的后處理,可以更加靈活的應用。
聲明:
“材料表面形態呈梯度變化的微納米級結構陣列的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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