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半導體器件及其制備方法、電子裝置

795   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 15:04:02
本發明涉及一種半導體器件及其制備方法、電子裝置。所述方法包括步驟S1：提供半導體襯底，所述半導體襯底包括邏輯區和有源區，所述邏輯區和所述有源區中形成有在邏輯區NMOS、有源區NMOS和有源區PMOS中去除虛擬柵極之后形成的凹槽；步驟S2：在所述凹槽中形成高K介電層；步驟S3：在所述有源區NMOS和所述有源區PMOS的所述高K介電層上形成功能材料層，以分別作為所述有源區NMOS的第一覆蓋層和所述有源區PMOS的第一功函數層；步驟S4：在所述有源區PMOS上形成第二覆蓋層和第二功函數層；步驟S5：在所述邏輯區NMOS、所述有源區NMOS和所述有源區PMOS上沉積NMOS功函數層和粘結膠層；步驟S6：沉積導電材料，以覆蓋所述粘結膠層同時填充所述凹槽。
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聲明：
“半導體器件及其制備方法、電子裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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