權利要求
1.鉬合金濺射靶材的制備工藝，其特征在于：所述的靶材制備工藝主要包括如下步驟： S1、原料配比：靶材所用原料均為粉末狀，包括合計原子百分比占比為0.5％--40％的Ga、Ni、Nd元素組中的至少一種和原子比0.5％--40％的Ti作為摻雜金屬，余量為Mo和不可避免的雜質； S2、原料混合：根據所需生產的質量數或體積數，按照S1中的原料組分進行配比，并將各組分在真空或者保護氣環境下進行原料混合攪拌，得到混合粉末； S3、膠套裝粉定型：將S2中得到的混合粉末裝入膠套，然后將膠套進行密封，并對膠套進行整形使得膠套保持長方體形狀或其他需要的形狀； S4、冷等靜壓作業：將S3中裝粉完成的壓制坯膠套放入冷等靜壓機壓制得到壓制坯； S5、熱等靜壓作業：將S4中得到的壓制坯進行熱等靜壓處理后得到燒結坯； S6、熱軋作業：將S5中得到的燒結坯進行熱軋制，得到板坯； S7、機加工作業：將S6中得到板坯進行機加工作業得到最終所需產品尺寸。
2.根據權利要求1所述的鉬合金濺射靶材的制備工藝，其特征在于：所述步驟S1中選用的原料粉純度不低于99.9％，粒度介于1.5μm—50μm之間。
3.根據權利要求1所述的鉬合金濺射靶材的制備工藝，其特征在于：所述步驟S1中元素Ga、Ni、Nd中的至少一種合計比例為原子比0.5％--40％，Ti原子比為0.5％--40％，其余為Mo及不可避免的雜質元素。
4.根據權利要求1所述的鉬合金濺射靶材的制備工藝，其特征在于：所述步驟S4冷等靜壓作業中，壓力緩慢升壓至150MPa-400MPa后，保壓3-10分鐘，然后泄壓，最后將壓制坯從膠套取出。
5.根據權利要求1所述的鉬合金濺射靶材的制備工藝，其特征在于：所述步驟S5熱等靜壓作業中，作業壓力為150MPa-300MPa，作業溫度為800℃-1200℃。
6.根據權利要求1所述的鉬合金濺射靶材的制備工藝，其特征在于：所述步驟S6熱軋作業中，熱軋制加熱溫度控制為800℃-1200℃，熱軋后退火去除應力，退火溫度控制為800℃-1200℃。
7.根據權利要求1所述的鉬合金濺射靶材的制備工藝，其特征在于：所述步驟S2中混料所用的混料機位V
聲明：
“鉬合金濺射靶材的制備工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：洛陽高新四豐電子材料有限公司
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2025年07月09日 ~ 11日 
