權利要求書： 1.一種鑭系鈣鈦礦陶瓷基光吸收體，其特征在于，其包括：
陶瓷基體，其包括七個按照預設順序依次疊層分布的結構層；各結構層包括位于中間層的鈣摻雜鉻酸鑭陶瓷層；位于所述鈣摻雜鉻酸鑭陶瓷層上下兩側的高鋇摻雜錳酸鑭陶瓷層；位于所述高鋇摻雜錳酸鑭陶瓷層上下兩側的中鋇摻雜錳酸鑭陶瓷層；以及位于所述中鋇摻雜錳酸鑭陶瓷層上下兩側的致密的低鋇摻雜錳酸鑭陶瓷層；其中，鈣摻雜鉻酸鑭陶瓷層、高鋇摻雜錳酸鑭陶瓷層、中鋇摻雜錳酸鑭陶瓷層呈多孔結構，所述陶瓷基體中各結構層中的孔隙尺寸從中間向兩側呈梯度遞減的分布狀態；所述陶瓷基體中各結構層的厚度為
0.05?0.2mm，總厚度為0.5?1mm；
抗激光損傷薄膜，其位于所述陶瓷基體中鈣摻雜錳酸鑭陶瓷層的外表面；所述抗激光損傷薄膜材料為氧化鋁陶瓷；所述抗激光損傷薄膜的厚度為50?200nm；以及納米過渡層，其由陶瓷基體和抗激光損傷薄膜中的相鄰結構層經高溫熱處理后生成，并位于二者的界面處。
2.如權利要求1所述的鑭系鈣鈦礦陶瓷基光吸收體，其特征在于：所述鈣摻雜鉻酸鑭的化學組成為：La1?αCaαCrO3，其中，表征Ca摻雜量的α為0.3～0.7；所述低鋇摻雜錳酸鑭的化學組成為：La0.5BaxMnO3，其中，表征Ba摻雜量的x為0.1～0.3；所述中鋇摻雜錳酸鑭的化學組成為：La0.5BayMnO3，其中，表征Ba摻雜量的y為0.4～0.5；所述高鋇摻雜錳酸鑭的化學組成為：La0.5BazMnO3，其中，表征Ba的摻雜量z為0.6～0.7。
3.如權利要求1所述的鑭系鈣鈦礦陶瓷基光吸收體，其特征在于：所述納米過渡層由鍍制有抗激光損傷薄膜的陶瓷基體經500～1000℃的溫度恒溫熱處理5～30min后制得。
4.一種如權利要求1?3任意一項所述的鑭系鈣鈦礦陶瓷基光吸收體的應用，其特征在于：將所述鑭系鈣鈦礦陶瓷基作為激光能量計的探頭中的光能吸收材料，用于吸收0.2～20μm波段內的紫外、可見以及近紅外和中遠紅外光。
5.一種寬光譜的激光能量計，其特征在于：其使用的探頭中采用了如權利要求1?3中任意一項所述的鑭系鈣鈦礦陶瓷基。
6.一種鑭系鈣鈦礦陶瓷基光吸收體的制備方法，其特征在于：其用于制備如權利要求
1?3中任意一項所述的鑭系鈣鈦礦陶瓷基光吸收體；所述制備方法包括如下步驟：
聲明：
“鑭系鈣鈦礦陶瓷基光吸收體及其應用與制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：微集電科技(蘇州)有限公司
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2025年07月09日 ~ 11日 
