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芯片失效分析過程中的剝層方法

967   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:59:31
本發明涉及一種芯片失效分析過程中的剝層方法，包括如下步驟：(1)提供芯片，所述芯片具有多層結構，且包括至少一層目標分析層，所述目標分析層包括待分析區域；(2)利用離子束自所述芯片的表面開始進行剝層處理，去除所述目標分析層之上的一層或多層，露出所述待分析區域，即可，其中，所述離子束包括至少一束寬束離子束，束斑直徑不小于1mm。該剝層方法，采用至少一束寬束離子束形成的離子束，可獲得較為均一的剝層加工面，避免了單束的高能聚焦離子束直接打在芯片表面，造成目標分析區域的損傷，有效提高了剝層的精度，同時還擴大了加工范圍，剝層效率高。
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