本發明涉及一種無損測量納米顆粒應力狀態的新方法,屬于X射線測量領域。采用X射線吸收精細結構譜測量包裹在介質材料中的納米顆粒原子間距離,通過分析納米顆粒原子間距離的變化,可以計算得到納米顆粒的應力狀態和大小。該方法與現有的應力測量方法最根本不同之處是采用X射線吸收精細結構譜這種無損檢測方法分析測量納米顆粒的應力。該方法從根本上填補了納米顆粒應力分析的空白,在分析納米顆粒的應力狀態、控制納米顆粒的有序生長和量子器件的實用化方面有明顯的應用價值。
聲明:
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