化學機械平面化裝置包括臺板、晶片托臂、托架組件、調節臂、和端操縱裝置。通過以最小需要的輸送速率提供拋光劑確保了不變的晶片平面化,使漿料輸送系統降低了浪費。漿料輸送系統包括檢查閥、隔膜泵、檢查閥、背壓閥和分配桿。隔膜泵在每個抽運周期提供精確的拋光劑體積,與輸入壓力無關。檢查閥防止拋光劑反向流過隔膜泵。背壓閥在檢查閥上產生壓力差,以防止在隔膜泵的回程期間拋光劑的流動。拋光劑從分配桿分配到拋光介質。
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