本發明公開了一種單晶硅外延片生產用廢氣處理系統,包括儲氣罐、吸附池、燃燒室、暫存罐和分離罐,儲氣罐的側壁上連接有排廢管和排氣管,排氣管上連接有曝氣管,且曝氣管置于吸附池內,吸附池內裝有用于吸附氨氣的溶液,吸附池連接有氨氣提純裝置,吸附池上設有燃燒室,儲氣罐安裝有與燃燒室連通的液體過濾裝置,吸附池內還設有伸入燃燒室的氫氣傳送管,燃燒室一側依次連接有暫存罐和分離罐,分離罐內設有過濾機構。本發明可提高氨氣回收的純度,通過燃燒室可燃燒多余的氫氣,利用氫氣提高燃燒室的溫度,同時利用高溫燃燒三甲基鎵,使三甲基鎵燃燒,然后對燃燒后的氣體進行處理,以防止三甲基鎵直接排放造成的危害。
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