本發明涉及一種制藥廢水深度處理系統,包括廢水調節池、混凝沉淀池、臭氧氧化氣浮池、填料式缺氧厭氧反應池、好氧接觸氧化池、二沉池、電解池、反流式曝氣生物濾池和清水池;混凝沉淀池包括攪拌混合區和沉淀區,臭氧氧化氣浮池包括混合區和分離區,填料式缺氧厭氧反應池包括通過折流板分隔成的兼氧段、缺氧段和厭氧段,好氧接觸氧化池設置有進水管、布水三角錐,布水三角錐下部設有曝氣調控系統,曝氣調控系統包括曝氣盤、鼓風機和溶解氧測量調控裝置,電解池為左右兩室結構,分別為正極室和負極室,正極室和負極室的底部連通,中上部由隔板隔開,正極室和負極室分別設有正負兩個電極板;反流式曝氣生物濾池包括下流區、上流區和污泥區。
聲明:
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