一種新穎及改進的廢水處理系統,適用于處理CMP制程的廢水與BG廢水及/或BW廢水。一暫存槽接收來自CMP制程的廢水,一暫存槽接收來自BG制程的廢水,一暫存槽接收來自BW的廢水,另一收集槽接收來自CMP(chemical mechanical polish)暫存槽廢水與背面研磨(backside grinding,BG)暫存槽的廢水。一反應槽接收來自收集槽的廢水及BW(back wash)的廢水,一凝結用帶正電荷的高分子助凝劑在反應槽中與研漿粒子結合,使研漿粒子從溶液中沉淀析出。一或一對沉降槽接收來自反應槽的廢水,且與帶負電荷的高分子聚合物結合的研漿粒子在沉降槽中從廢水中分離出來。一放流槽接收來自沉降槽凈化后的廢水,此凈化后的廢水可用輸送泵送至一儲存槽,例如一回收水(RCW)槽,用于例如廢氣洗滌裝置的清潔制程。
聲明:
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