本發明公開了一種鉀摻雜介孔g-C3N4光催化材料的制備方法,屬于光催化材料技術領域。該方法包括如下步驟:將三聚氰胺和KI充分研磨后平鋪于坩堝底部,將SBA-15均勻的分散在三聚氰胺和KI混合物的上面,然后將坩堝加蓋后置于馬弗爐內進行煅燒,產物經處理后即得所述鉀摻雜介孔g-C3N4光催化材料。該光催化材料比表面積大使得反應活性位點增加,鉀摻雜后可有效抑制光生電子和空穴的復合,表現出更優異的光催化性能。本發明鉀摻雜介孔g-C3N4光催化材料可降解有機染料廢水,在60min能降解80%以上的目標降解物,顯示了優異的光催化活性。
聲明:
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