本發明公開了一種霧化等離子體處理廢水的裝置及其方法,將待處理的廢水通過裝置上部霧化系統霧化成均勻的液滴并向裝置下部的放電等離子體區域噴灑;霧化后的廢水將全部經過放電等離子體區域并與等離子體直接接觸進行處理;處理后的廢水自動進入收集裝置以待進行循環處理。本發明采用霧化等離子體處理廢水的方法將霧化區域與等離子體區域分離,等離子體特性不受廢水影響,可適用于不同成分的工業廢水的處理。不同高濃度的工業廢水經本發明處理后COD的去除率均高于99%。
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