本發明公開了一種半導體工業廢水處理技術及回收利用工藝,其工藝步驟如下:該半導體廢水主要分三大類:包括含銅,鎳,錫重金屬廢、含氟離子廢水,其處理工藝流程如下:首先將切割研磨硅片產生的廢水和純水系統反洗及RO濃水,分流單獨處理,重金金屬廢水和含氟離子廢水集中單獨處理后再集中處理,合格達到半導體廢水排放標準再排放;研磨切割廢水單獨處理后合格部分回收利用。有效的解決了現有技術中的缺陷,大大提高了該工藝效率。
聲明:
“半導體工業廢水處理技術及回收利用工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)