本發明是利用離子注入制備光學晶體的脊形光波導的方法,該方法離子注入、光刻膠掩膜制備和Ar離子束刻蝕。采用能量為2.0-5.0MeV的離子注入到光學晶體的表面,在形成的平面光波導上制備掩膜,用Ar離子束進行刻蝕,能夠在光學晶體表面形成脊形光波導;用氧離子和硅離子等注入鈮酸鋰和偏硼酸鋇等非線性光學晶體能夠形成增加型的脊形光波導;用氦離子或者氫離子注入多數光學晶體能夠形成位壘型脊形光波導。所形成的脊形光波導可以保持較好的非線性光學特性。脊形光波導的厚度、脊背的寬度、深度以及導波模式可以由工藝參數控制。采用本發明可以制作光開關、光調制器等光電子器件。
聲明:
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