一種圖案化立式石墨烯及其制備方法,本發明采用鐵、鈷、鎳、鉬等材料作為基底,將掩模置于基底上以調控立式石墨烯的生長區域,最終得到圖案化立式石墨烯。本發明工藝簡單,有利于實現大規模生產,便于推廣應用;采用本發明方法制得的產品具有導電性好、比表面積大、電化學穩定性強等優異性能,可廣泛應用于超級電容器、鋰離子電池、太陽能電池等新能源器件,也可適用于傳感器件、真空電子器件、電磁屏蔽等領域。
聲明:
“圖案化立式石墨烯及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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