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超薄晶圓平坦化加工夾持的方法

882   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 00:22:07
本發明公開了一種超薄晶圓平坦化加工夾持的方法，包括如下步驟：首先將超薄晶片放置在真空吸盤的表面，真空吸盤的底部且對應超薄晶片的位置開設有多個抽氣孔，在真空吸盤的頂部設置真空系統，真空系統通過對真空吸盤表面的多個抽氣孔進行抽真空，使超薄晶片吸附在真空吸盤的底部。本發明較傳統的吸附墊夾持方式，可以大幅增加加工壓力，提升拋光效率，并且可以克服傳統的雙拋、上蠟以及吸附墊夾持加工方式無法達到＜200um的工藝水準，本發明可以將晶片薄化到＜50um，且保證表面平坦度可達5mm2＜0.5um，PLTV＞95％的水準，解決了傳統加工工藝無法達到鉭酸鋰(LiTaO3；LT)晶片厚度＜200um，且平坦度在5mm2＜0.5um，PLTV＞95％穩定產品品質要求的問題。
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“超薄晶圓平坦化加工夾持的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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