本發明提供無光陶瓷釉用低溫熔塊及利用該低溫熔塊制備無光釉陶瓷制品的制備工藝,屬于陶瓷技術領域。本發明的陶瓷無光釉由氧化硅、低溫熔塊、氧化鋁、氧化鈉、氧化鉀、氧化鈣、氧化鋰、氧化硼、氧化鋇及顏料組成,低溫熔塊由以下重量百分含量的原料組成:高嶺土22~25%、硅酸鈉9~15%、硝酸鋅8~9%、透輝石8~10%、鈦酸鋁9~10%、鋇長石7~8%、石英5~9%、二苯甲酮6~7%、硼鈉鈣石5~8%、螢石7~8%、硼砂2~3%。采用本發明提供的無光釉原料與工藝制得的無光釉陶瓷制品,其釉面滋潤、細膩且具備一定的硬度、耐磨性與抗水性。
聲明:
“無光陶瓷釉用低溫熔塊及利用該低溫熔塊制備無光釉陶瓷制品的制備工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)