本發明公開了一種聚酰胺銅復合膜的制備方法,聚酰胺為聚癸二酰癸二胺,包括以下步驟:向癸二胺的乙醇溶液、癸二酸的乙醇溶液、強磷酸和水中,通氮氣,高溫高壓下回流反應;加脫水劑,反應1~1.5h;在250~280℃,逐步泄壓排出水蒸氣,壓力為0.1MPa時,停止通氮氣,靜置,將物料壓出,經鑄帶、切粒、干燥后,加入三氟乙酸溶解,加入硝酸銅溶液,加熱攪拌,加入硼氫化鋰或者硼氫化鈉水溶液,攪拌反應后,取出物料,經水洗、干燥后制得聚酰胺銅復合膜。本發明公開的制備方法,能夠使復合膜中的聚酰胺膜基體內鑲嵌有銅納米粒子,且不易脫落,并且具有原聚合物基體良好的力學性能、耐熱性能、優良的電、磁和屏蔽性能,因其制備過程操作簡單,便于推廣應用。
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“聚酰胺銅復合膜的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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