本發明涉及一種多孔材料及其合成方法,主要提供了一種具有復合孔道特征的多孔材料及其合成方法。本發明通過采用以選自無定形二氧化硅、硅溶膠、固體氧化硅、硅膠、硅藻土或水玻璃中的至少一種為硅源,以選自鋁酸鈉、偏鋁酸鈉、硫酸鋁、硝酸鋁、氯化鋁、氫氧化鋁、氧化鋁、高嶺土或蒙脫土中的至少一種為鋁源,以選自氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化銣或氫氧化銫中的至少一種為原料,反應混合物的摩爾比:SiO2/Al2O3=5~1000,OH-/SiO2=0.01~5.0,H2O/SiO2=5~30,R/SiO2=0.05~2.0,R為模板劑,在0~100℃陳化1~120小時后,在晶化溫度為90~200℃,晶化時間為1~200小時下合成的技術方案,合成了同時具有微米級大孔和納米級微孔的多孔材料,可用于工業生產中。
聲明:
“多孔材料及其合成方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)