本發明提供了一種三維復合結構的儲能薄膜及其制備方法與應用。所述復合型三維結構薄膜的制備方法包括的步驟有:將硅靶材和導電鋰離子載體金屬靶材在惰性氣氛下進行共濺射處理,在基體上生長三維復合型結構薄膜。本發明三維復合型結構薄膜的制備方法生長的三維復合型結構薄膜具有較多的接觸界面且界面電阻小的特性,而且形成的界面可以吸收硅材料在在充電時形成的體積膨脹從而導致的在放點時形成的薄膜脫落,減輕周期性體積變化的應力,保持鋰離子嵌入/脫出過程中的結構穩定性。另外,所述制備方法有效保證生長的復合型三維結構薄膜電化學性能穩定。
聲明:
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