本發明提供一種復合晶片,其在支持晶片和氧化物單晶薄膜的貼合界面不易產生破裂或剝落,且在支持晶片上的整個面轉印有作為鉭酸鋰或鈮酸鋰的氧化物單晶的薄膜。具體來說是一種復合晶片的制造方法,其至少包括:在氧化物單晶晶片的內部形成離子注入層的工序;對氧化物單晶晶片的經離子注入的表面和支持晶片的表面中的至少一者實施表面活化處理的工序;將氧化物單晶晶片的經離子注入的表面和支持晶片的表面貼合而獲得接合體的工序;在接合體的至少一個表面具備具有比氧化物單晶晶片小的熱膨脹系數的保護晶片的工序;以及以80℃以上的溫度對具備保護晶片的接合體進行熱處理的工序,且沿著離子注入層剝離而獲得被轉印于支持晶片上的氧化物單晶薄膜的工序。
聲明:
“具備氧化物單晶薄膜的復合晶片的制造方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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