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LiMnxOy@C三維納米片陣列、制備方法及其應用

1117   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 23:14:01
本發明公開了一種三LiMnxOy@C三維納米片陣列、制備方法及其應用。所述的三維納米片陣列表面富含氧空位，由碳層包覆的MnO，γ?MnO2及LiMn2O4構成的復合物組成，以Mn(CH3COO)2為原料，Na2SO4為電解質，水作為溶劑，泡沫鎳作為集流體，通過電化學沉積法制備前驅體，再將其轉移到LiOH水溶液中通過水熱反應嵌鋰，最后將嵌鋰后的前驅體浸泡在葡萄糖水溶液中，再經過Ar/H2退火得到表面富含氧空位缺陷的三維LiMnxOy@C納米片陣列材料。該材料具有三維陣列結構，利于電解質進入與活性材料反應，富含氧空位，電化學性能得到有效提高，同時包覆的碳層可以提高電極材料的導電性和機械穩定性；制備方法簡單環保，不需要復雜的后處理過程。
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加工技術
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