本發明公開了一種超薄超高抗雙面光鋰電銅箔的生產方法,包括以下步驟:配置電解液進行哈林槽打片,每次1.5L,根據多種添加劑體系要求,添加相應的添加劑,電解液參數按照要求進行,電解液濃度為1?20ppm;哈林槽加液1.5L,添加劑按照濃度添加,充分攪拌均勻,電流26.5A,通電50s,控制槽壓4.5?5.5V,電鍍結束后?用純水沖洗,然后用吹風機吹干;將銅箔從陰極板剝下,檢測光澤度、抗拉強度,添加劑實驗每批次實驗結束后換液。本發明采用上述一種超薄超高抗雙面光鋰電銅箔的生產方法,同時提升了銅箔的常溫抗拉強度及延伸率,工藝簡單,6μm高抗銅箔外觀無差異。
聲明:
“超薄超高抗雙面光鋰電銅箔的生產方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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