本發明公開一種鈮酸鋰周期光柵結構的制備方法。該方法選取合適尺寸的Y36°和Y128°切向的同成份鈮酸鋰晶片作為基底,在225℃下質子交換3個小時,然后采用濕法刻蝕的方法,即將樣品放入HF?HNO3混合刻蝕液中10個小時,得到周期光柵結構。本發明基于濕法刻蝕法制作周期光柵,該制作方法操作簡便,無需掩模光刻,刻蝕的選擇性好,成本較低,有利于推廣和應用。
聲明:
“鈮酸鋰周期光柵結構的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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