本發明公開了一種用于鋰?硫電池的共軛微孔聚合物改性隔膜的制備方法,是先以1,3,5?三乙炔基苯和2?氨基3,5?二溴吡啶為單體,四(三苯基膦)鈀(0)和碘化亞銅共為催化劑,三乙胺和二甲苯的混合溶液為介質形成反應體系,將商業鋰電池隔膜于該反應體系中并置于填充惰性氣體的密閉容器中,在65~90°C反應24~72 h,在商業鋰電池隔膜表面原位生長共軛微孔聚合物,得到共軛微孔聚合物改性隔膜。本發明通Sonogashira?Hagihara反應在商業鋰電池隔膜表面原位生長富有含氮官能團的共軛微孔聚合物,可有效抑制聚硫化物穿梭,顯著提高了鋰?硫電池的容量、活性物質利用率、循環穩定性和倍率性能。
聲明:
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