本發明公開了一種大尺寸超薄鈮酸鋰基片的雙面拋光方法,包括如下步驟:a)將切割后的大尺寸超薄鈮酸鋰晶片研磨后獲得表面具有粗糙結構的大尺寸超薄鈮酸鋰雙面研磨片;b)然后進行雙面減薄,超聲清洗,獲得表面具有粗糙結構的大尺寸超薄鈮酸鋰雙面減薄片;c)在盛有硝酸、氫氟酸和緩釋劑均勻混合的密閉容器中直接進行化學腐蝕,獲得表面隨機無序凹坑結構的大尺寸超薄鈮酸鋰腐蝕片;d)用雙面拋機和拋光液進行雙面拋光,再進行超聲清洗,獲得最終的大尺寸超薄鈮酸鋰雙拋片。本發明一次拋光,批量生產,拋光效率高,生產的鈮酸鋰基片表面平坦度高,這一特征決定了鈮酸鋰基片在器件應用中不易破碎,材料利用率高,加工成品率高。
聲明:
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