本申請提供一種基于內擴散和離子注入的鈮酸鋰波導制備方法,包括以下步驟:獲取鈮酸鋰晶體;在所述鈮酸鋰晶體表面沉積鈦層,將沉積有鈦層的鈮酸鋰晶體進行高溫擴散處理,獲得鈦擴散后的鈮酸鋰晶體;對所述鈦擴散后的鈮酸鋰晶體進行清洗處理,去除所述光刻處理后殘留的光刻膠以及所述高溫擴散處理后殘余的鈦層;對所述鈦擴散后的鈮酸鋰晶體進行區域離子注入處理,獲得注入離子后的鈮酸鋰晶體;其中,所述區域離子注入處理中注入的離子為能夠提高所述鈮酸鋰晶體抗光折變性的離子;對所述注入離子后的鈮酸鋰晶體進行退火處理。該制備方法在內擴散技術的基礎上注入能夠提高鈮酸鋰抗光折變性的離子,能夠有效減小鈮酸鋰光波導光損傷效應。
聲明:
“基于內擴散和離子注入的鈮酸鋰波導制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)