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應用于表面改性的低熔點低膨脹系數光學玻璃及其制備方法

1034   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
2023-03-18 17:53:03
本發明公開了應用于表面改性的低熔點低膨脹系數光學玻璃及其制備方法。該方法按氧化物及其質量百分比用量配料:Bi2O3?68~72%、B2O3?14~15%、BaO?8~12%、SiO2?1.5~2%、MgO?1~1.8%、TiO2?0~1%、CuO?0.1~0.2%和Li2O?0~2.4%;然后混粉、預熱與添料、澄清、澆制以及退火處理;制得低熔點低膨脹系數玻璃的氧化鉍體系光學玻璃,30℃~300℃的熱膨脹系數在107.46×10‐7/℃~118.66×10‐7/℃之間,軟化點在500~535℃之間,與碳化硅鋁基復合材料的潤濕角為100°~118°,復合溫度為550℃~580℃。
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“應用于表面改性的低熔點低膨脹系數光學玻璃及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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