本發明公開了一種用于高光免噴涂PMMA的耐刮擦劑及其制備方法,該用于高光免噴涂PMMA的耐刮擦劑包括以下組分:納米二氧化鋯40~70份;改性聚硅氧烷10~30份;長鏈烷基聚硅氧烷20~50份。本發明還公開了一種耐刮擦PMMA復合材料。該耐刮擦劑可有效改善PMMA表面的耐刮擦性能,且長效穩定性高,使制件保持長久優異的表面光澤度,另外可以有效提高PMMA的脫模等其他綜合性能。
聲明:
“用于高光免噴涂PMMA的耐刮擦劑及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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