本發明公開了一種形成金屬玻璃鍍膜的靶材,在基材上濺鍍形成組成是ZraKbMcNd的金屬玻璃鍍膜,其中,K、M、N選自于VB族、VIB族、VIIIA族、IB族、IIIA族,或IVA族中的元素,任二者的原子半徑百分比不小于15%,a、b、c、d表原子組成百分比,30≤a≤77,11≤b≤50,4≤c≤15,4≤d≤10,靶材具有多數成扇形拼成圓盤狀或長方形連續排列的鍍膜材料單元,每一鍍膜材料單元具有四條分別由鋯、K、M、N四金屬元素構成的元素分條,且所有元素分條的鋯、K、M、N數量比與金屬玻璃鍍膜成濺鍍產生比例關系。
聲明:
“形成金屬玻璃鍍膜的靶材及該靶材形成的復合材料” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)