本實用新型公開了一種復合材料磁控濺射鍍膜的前處理設備,包括處理箱體,所述處理箱體上設置有冷泵,所述冷泵與處理箱體內貫通連接,所述冷泵上設置有分子泵,所述處理箱體內設置有軌道架和離子源,所述軌道架上設置有產品固定架,所述軌道架帶動產品固定架移動,所述離子源朝向產品固定架設置,所述處理箱體位于產品固定架移動方向的兩側均設置有箱門。本實用新型能夠去除鍍膜腔體工藝溫度降低導致的高濕度和高放氣量,脫落空氣中游離的雜質并抽離,提高單位腔體抽真空效率和維護真空度穩定,從而保證后續鍍膜的良率。
聲明:
“復合材料磁控濺射鍍膜的前處理設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)