本發明涉及一種基于黑磷烯的半導體復合材料及其制備方法與應用,其原料組分如下:黑磷烯?聚苯胺復合物10~20份,成膜基底50~60份,填料0~15份,交聯劑1~5份,有機溶劑200~250份。相對于現有技術,本發明以黑磷烯?聚苯胺為半導體介質,其特殊的二維納米結構,使得在不添加導電粉體情況下,在20℃的體積電阻率在6~11Ω·cm,應用前景廣泛;且黑磷烯二維納米結構與苯胺形成共軛結構,聚合后的聚苯胺與黑磷復合均勻,使得材料性能更加穩定。
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