本發明公開了用于金屬復合材料表面鍍層的磁控噴射裝置及工作方法,包括鍍膜室、安裝在所述轉動軸上的多個用于放置待鍍膜件的轉盤、設置在所述鍍膜室內并對稱安裝在所述轉動軸兩側的第一磁控濺射對靶和第二磁控濺射對靶;在所述鍍膜室上設置有對所述第一磁控濺射對靶和第二磁控濺射對靶進行冷卻降溫的冷卻系統。本申請中通過在所述鍍膜室的頂部安裝有旋轉工作架,在所述旋轉工作架上安裝有用于驅動所述轉動軸轉動的減速驅動電機,從而通過電機帶動轉盤上的待鍍層件進行轉動,便于各個角度均勻地進行磁控濺射鍍層;另外在冷卻系統中回轉排布的冷卻管有效地對磁控濺射對靶進行降溫,從而提高磁控濺射對靶運行的穩定性。
聲明:
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我是此專利(論文)的發明人(作者)